<3405> クラレ 1779 0半導体工場の排水処理などに使うろ過膜の生産能力を増強し、2029年の稼働開始を目指すと報じられた。14日開催した事業説明会で明らかにしたと伝えられている。人工知能（AI）の成長で半導体工場やデータセンターの排水設備の需要が高まるなか、汚れのひどい濃厚排水をろ過する「中空糸膜」の生産を拡大するようだ。
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